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J-GLOBAL ID:200903086259394373

パターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991309525
Publication number (International publication number):1993142414
Application date: Nov. 26, 1991
Publication date: Jun. 11, 1993
Summary:
【要約】【目的】液晶ディスプレイのカラーフィルタなどの製造の際に、後工程での平坦化処理が容易にできる平滑な表面を得る。【構成】離型層12を有する転写用ガラス基板11上に一旦印刷法でカラーパターン13およびブラックマトリクス14のパターンを形成し、その後パターンの検査を行い、良品のみをガラス基板16上に紫外線硬化樹脂などの接着層15を介して転写用ガラス基板上に形成する。【効果】従来法ではカラーフィルターの歩留りがRGBおよびブラックマトリクスの各パターン形成時での歩留りの積となるが、本発明では良品のみをガラス基板上に転写されるため歩留りの向上がはかれる。また、離型層からの転写により表面の平坦性に優れたパターンを形成することができる。
Claim (excerpt):
離型層を表面に有する転写用基板上にパターンを形成する工程と、前記パターンを前記離型層を有する転写用基板から被転写基板上へ転写する工程からなることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

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