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J-GLOBAL ID：200903086272530634

イミン類の製造方法

Inventor：
萩谷 弘寿

About 萩谷 弘寿

, 
原田 恵津子

About 原田 恵津子


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995280234
Publication number (International publication number)：1997124576
Application date： Oct. 27, 1995
Publication date： May. 13, 1997
Summary：
【要約】【課題】 一級アミン類〔I〕とケトン類〔II〕から、速やかにしかも高収率でイミン類〔III〕を製造し得るのみならず、反応装置等の腐食も防止し得る方法を提供する。【解決手段】 触媒としてチタンアルコキシドを用い、一級アミン類〔I〕(式中、R1,R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、ピリジル基又はフリル基を表す。アリール基、ピリジル基及びフリル基は、アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子、ハロゲノメチル及びニトロから選ばれる基により置換されていてもよい。nは0又は1を表す。)とケトン類〔II〕(式中、R3,R4 はアルキル基、アリール基、ピリジル基又はフリル基を表し、アリール基、ピリジル基又はフリル基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲノメチル及びニトロから選ばれる基により置換されていてもよい。)を縮合させ、イミン類〔III〕を製造する。
Claim (excerpt)：
触媒としてチタンアルコキシドを用い、一般式〔I〕(式中、R1,R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、ピリジル基又はフリル基を表すが、同時に水素原子であることはない。アリール基、ピリジル基及びフリル基は、アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子、ハロゲノメチル及びニトロから選ばれる基により置換されていてもよい。nは0又は1を表す。)で示される一級アミン類と一般式〔II〕(式中、R3,R4 はアルキル基、アリール基、ピリジル基又はフリル基を表し、アリール基、ピリジル基及びフリル基はアルキル、アルコキシ、ハロゲン原子、ハロゲノメチル及びニトロから選ばれる基により置換されていてもよい。)で示されるケトン類を縮合させることを特徴とする一般式〔III〕(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、及びnは前記と同じ意味を表す。)で示されるイミン類の製造方法。
IPC (9)：
C07C249/02 ,  B01J 31/02 101 ,  C07C251/16 ,  C07C251/20 ,  C07C251/24 ,  C07D213/74 ,  C07D307/52 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300
FI (9)：
C07C249/02 ,  B01J 31/02 101 Z ,  C07C251/16 ,  C07C251/20 ,  C07C251/24 ,  C07D213/74 ,  C07D307/52 ,  C07B 53/00 G ,  C07B 61/00 300
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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