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J-GLOBAL ID:200903086298717554
オゾン殺菌方法及びその装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
絹谷 信雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005360190
Publication number (International publication number):2007159820
Application date: Dec. 14, 2005
Publication date: Jun. 28, 2007
Summary:
【課題】オゾン濃度が変化しても適切な処理時間を設定できるオゾン殺菌方法及びその装置を提供する。【解決手段】殺菌チャンバー10内にオゾン発生器11からオゾンを供給し、殺菌対象物を殺菌処理する際に、殺菌チャンバー10内のオゾン濃度Cを検出すると共に、そのオゾン濃度Cを時間T毎に積分し、その積分値(CT)が一定に達したとき殺菌を停止するものである。【選択図】図1
Claim (excerpt):
殺菌チャンバー内にオゾンを供給し、殺菌対象物を殺菌処理する際に、オゾン処理をオゾン濃度と時間の積が一定になるように制御することを特徴とするオゾン殺菌方法。
IPC (3):
A61L 2/20
, A61L 2/18
, A61L 2/26
FI (4):
A61L2/20 C
, A61L2/20 J
, A61L2/18
, A61L2/26 C
F-Term (12):
4C058AA01
, 4C058BB07
, 4C058CC02
, 4C058DD01
, 4C058DD03
, 4C058DD05
, 4C058DD07
, 4C058DD12
, 4C058DD15
, 4C058JJ07
, 4C058JJ14
, 4C058JJ29
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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水の消毒装置およびその制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-291843
Applicant:三菱電機株式会社
-
滅菌方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-155919
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
Cited by examiner (3)
-
室のオゾン殺菌システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-243070
Applicant:瑞穂医科工業株式会社
-
ガス検知装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-021229
Applicant:株式会社サクラクレパス
-
消臭殺菌の方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-319565
Applicant:株式会社ゼクセル
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