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J-GLOBAL ID:200903086308807085
静電チャック
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994118417
Publication number (International publication number):1995326655
Application date: May. 31, 1994
Publication date: Dec. 12, 1995
Summary:
【要約】【目的】半導体製造工程において稼働中に静電チャックを構成する導電層や絶縁層が剥離したりせず、不純物等の汚染の恐れもなく、高温でも長期に渡り優れた信頼性と安定性を示し、その上、格別な高純度の原料を用いる必要もなく、製造コストの低い静電チャックを得ることができる。【構成】シリコンウエハー等を保持する静電チャック1を、窒化アルミニウム質焼結体から成る基体2と、基体2の表面に被着形成したモリブデン(Mo)とマンガン(Mn)を主成分とする導電層3と、少なくとも導電層3を覆うように被覆した窒化アルミニウムを主体とする膜から成る絶縁層4で、あるいは更に基体2中に発熱回路5を内蔵して構成する。
Claim (excerpt):
窒化アルミニウム質焼結体から成る基体の表面に、モリブデン(Mo)とマンガン(Mn)を主成分とする導電層を被着形成し、少なくとも該導電層上に、酸素含有量が20原子%以下で、厚さが0.001〜1.0mmの窒化アルミニウムを主体とする膜を気相合成法で被覆した絶縁層を有することを特徴とする静電チャック。
IPC (3):
H01L 21/68
, B23Q 3/15
, H02N 13/00
Patent cited by the Patent:
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