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J-GLOBAL ID:200903086309762255

フォトマスク保護用積層粘着フイルム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993256833
Publication number (International publication number):1995110570
Application date: Oct. 14, 1993
Publication date: Apr. 25, 1995
Summary:
【要約】【目的】 厚みの薄い基材を用いて高い光線透過率を維持しながら、しわの発生を防止できるフォトマスク保護用積層粘着フイルムを提供することを目的とする。【構成】 厚さ6μmの透明なポリエステル基材11の片面に厚さ2μmの粘着剤層12が、該基材11の他面に剥離層13が設けられてなるフォトマスク保護用フイルム1の粘着剤層12面にポリエステルフイルムからなる剥離紙2が積層されてなり、厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフイルム31の片面にアクリル系粘着剤層32を有する保護材3の粘着剤層が上記剥離層13に積層されてなる。
Claim (excerpt):
透明な合成樹脂基材の片面に粘着剤層が、他面に剥離層が設けられてなるフォトマスク保護用フイルムの粘着剤層面に剥離紙が積層され、片面に粘着剤層を有する保護材の粘着剤層が上記剥離層に積層されてなることを特徴とするフォトマスク保護用積層粘着フイルム。
IPC (4):
G03F 1/00 ,  B32B 27/00 ,  C09J 7/02 JKY ,  C09J 7/02 JLF
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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