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J-GLOBAL ID：200903086335729150

ガス流量制御装置

Inventor： 岡村 健司
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993107806
Publication number (International publication number)：1994318116
Application date： May. 10, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】反応器にガスを導入する装置において、ガスの導入開始の際に過剰なオーバーシュートを起こすことなく、安定したガス流量の制御を行なう。【構成】反応器内にガスを導入する装置において、ガス導入系にガス流量検出機構とガス開閉弁とガス流量制御弁とを入口側からこの順番で具備するガス流量制御器を有している。

Claim (excerpt)：

反応器内にガスを導入する装置において、ガス導入系に、ガス流量検出機構、ガス開閉弁、ガス流量制御弁を入口側からこの順番で具備するガス流量制御器を有することを特徴とするガス流量制御装置。

IPC (4)：

G05D 7/06 ,  B01J 4/02 ,  G05D 16/20 ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-214117
  
• 特開平4-209016
  
• 特開昭63-104113