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J-GLOBAL ID：200903086378904525

ノズル形成用マスクおよびノズル形成方法

Inventor： スチュアート ディー アサカワ ,  ポール エイチ マックレランド ,  エレン アール タポン ,  リチャード アール バンデポル ,  ケネス イー トゥルエバ ,  チエン フア チェン
Applicant, Patent owner： ヒューレット・パッカード・カンパニー
Agent (1)： 遠藤 恭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994120542
Publication number (International publication number)：1994328699
Application date： May. 10, 1994
Publication date： Nov. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 所定の開口形状,所定の傾斜を持つテーパ(インクの出口に向けて先細りとなっているテーパ)付きノズルを容易に形成する。【構成】 ノズル部材に一つ以上のテーパ付きノズルを形成するのに使用するマスクであって、(1)透明なマスク基板32、および(2)前記基板32上に形成された、プリントヘッドのノズル部材に形成しようとするノズルに対応する少くとも一つの開口35を規定している不透明層であり、前記少くとも一つの開口35の各々には密度が該少くとも一つの開口の各々の中心から該少くとも一つの開口の各々の周辺まで増加している不透明な部分が形成されている不透明層(36の集まり)、から構成されてなることを特徴とするノズル形成用マスク30。

Claim (excerpt)：

ノズル部材に一つ以上のテーパ付きノズルを形成するのに使用するマスクであって、透明なマスク基板、および前記基板上に形成された、プリントヘッドのノズル部材に形成しようとするノズルに対応する少くとも一つの開口を規定している不透明層であり、前記少くとも一つの開口の各々には密度が該少くとも一つの開口の各々の中心から該少くとも一つの開口の各々の周辺まで増加している不透明な部分が形成されている不透明層、から構成されてなることを特徴とするノズル形成用マスク。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 感光性ガラスの加工方法とそれに使用するフオトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-255278   Applicant：株式会社精工舎