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J-GLOBAL ID：200903086386974990

塗布方法、塗布装置及びこれにより塗布膜が形成された帯状可撓性支持体を使用したパターン部材の製造方法

Inventor：
小川 正太郎

About 小川 正太郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002245207
Publication number (International publication number)：2004081964
Application date： Aug. 26, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：
【課題】膜厚が極薄く、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑な塗布膜を得ることのできる塗布方法及び装置を提供する。【解決手段】塗布ヘッド18のスリット18Cより塗布液を供給しながら、塗布ヘッド18と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状可撓性支持体12に、所定膜厚の塗布膜28を形成する塗布方法。塗布ヘッドのスリット中における塗布液の平均流速を100〜500mm/秒とし、塗布直後の塗布膜28の膜厚を2〜40μmとし、かつ、塗布後0.5秒以内に帯状可撓性支持体12を水平状態に支持させる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
塗布ヘッドのスリットより塗布液を供給しながら、該塗布ヘッドと所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状可撓性支持体に、所定膜厚の塗布膜を形成する塗布方法において、 前記塗布ヘッドのスリット中における前記塗布液の平均流速を100〜500mm/秒とし、塗布直後の前記塗布膜の膜厚を2〜40μmとし、かつ、塗布後0.5秒以内に前記帯状可撓性支持体を水平状態に支持させることを特徴とする塗布方法。
IPC (3)：
B05D1/26 ,  B05C5/02 ,  H01J9/227
FI (3)：
B05D1/26 Z ,  B05C5/02 ,  H01J9/227 C
F-Term (45)：
2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA29 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA12 ,  2H088KA30 ,  2H088MA04 ,  2H088MA20 ,  2H091FA02X ,  2H091FA02Z ,  2H091FB12 ,  2H091FC21 ,  2H091FC22 ,  2H091FC29 ,  2H091FD04 ,  2H091GA01 ,  2H091KA10 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  4D075AC02 ,  4D075AC72 ,  4D075AC92 ,  4D075AC94 ,  4D075AC96 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB92Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA04 ,  4D075DB36 ,  4D075DB38 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA19 ,  4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA56 ,  4F041CA02 ,  4F041CA13 ,  4F041CA22 ,  5C028HH04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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