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J-GLOBAL ID：200903086396162919

成形体表面の親水加工法

Inventor： 入江 正浩 ,  岸本 聡一郎
Applicant, Patent owner： ユニチカ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991208592
Publication number (International publication number)：1993024951
Application date： Jul. 24, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 成形体表面にその位置に応じてデザイン通りに濃度の選択された親水性基を導入する新規な親水性の光制御法を提供する。【構成】 光二量化反応性の感光性基を有する成形体の表面に、これと同じ感光性基を持つ光感応性親水化処理剤の蒸気中で、可視光、紫外光等の光を照射することによって、親水性基を導入する。【効果】 本発明の方法を用いれば、従来技術にては到達し得なかった高度の親水性光制御が可能となり、電子回路材料、オフセット印刷のマスター版、包装フィルム、衣料品、生体材料等の成形体の制御された親水加工に利用できる。

Claim (excerpt)：

光二量化反応性の感光性基を有する成形体表面に、該感光性基と光二量化反応を惹起し得る感光性基と少なくとも1個の親水性基を有してなる有機化合物の蒸気中で、紫外光線及び/又は可視光線を照射し、該成形体表面の感光性基と該有機化合物の感光性基を反応させて、その光照射部分に親水性基を導入することを特徴とする成形体表面の親水加工法。

IPC (4)：

C04B 40/00 ,  C03C 17/28 ,  C04B 41/46 ,  C08J 7/16