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J-GLOBAL ID：200903086402793837

オキシ水酸化ニッケルの製造方法

Inventor： 丸田 順一
Applicant, Patent owner： 日本電池株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999363276
Publication number (International publication number)：2001176508
Application date： Dec. 21, 1999
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】高純度のオキシ水酸化ニッケルの製造方法を確立する。【解決手段】オキシ水酸化ニッケルの製造方法において、水酸化ニッケル粉末または水酸化ニッケル中のニッケルの一部をニッケル以外の金属で置換した化合物粉末とオゾンとを、水酸化ニッケルおよびオキシ水酸化ニッケルの溶解度が1×10-4M/L以下である溶媒中で反応させる工程を備える。

Claim (excerpt)：

水酸化ニッケル粉末または水酸化ニッケル中のニッケルの一部をニッケル以外の金属で置換した化合物粉末とオゾンとを、水酸化ニッケルおよびオキシ水酸化ニッケルの溶解度が1×10-4M/L以下である溶媒中で反応させる工程を備えたことを特徴とする、オキシ水酸化ニッケルの製造方法。

IPC (2)：

H01M 4/48 ,  H01M 4/32

FI (2)：

H01M 4/48 ,  H01M 4/32

F-Term (15)：

5H003AA02 ,  5H003AA04 ,  5H003BA00 ,  5H003BA07 ,  5H003BB04 ,  5H003BD00 ,  5H003BD01 ,  5H003BD03 ,  5H016AA02 ,  5H016BB11 ,  5H016BB18 ,  5H016HH00 ,  5H016HH01 ,  5H016HH11 ,  5H016HH17