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J-GLOBAL ID：200903086482151555

塔式処理方法および装置

Inventor：
坂元 一彦

About 坂元 一彦

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中原 整

About 中原 整

, 
上岡 正敏

About 上岡 正敏

, 
笠谷 直人

About 笠谷 直人


Applicant, Patent owner：
株式会社日本触媒

About 株式会社日本触媒


Agent (1)： 松本 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999317547
Publication number (International publication number)：2001129388
Application date： Nov. 08, 1999
Publication date： May. 15, 2001
Summary：
【要約】【課題】 蒸留塔などの塔式処理方法において、処理流体中に含有されていたり生成したりする析出物、重合物などの固形不純物を効率よく除去して、塔式処理が安定的に稼働できるようにする。【解決手段】 処理塔10内で処理流体に対する物理的/化学的処理を進行させながら、処理塔10の塔底側の抜出口16などから処理塔10の外に処理流体を抜き出す工程(a) と、工程(a) で抜き出された処理流体からストレーナ40などで固形不純物を除去する工程(b) と、工程(b) で固形不純物が除去された処理流体を戻し口18などから処理塔に戻す工程(c) とを継続的に行うことで、処理流体から固形不純物を効率良く除去できる。
Claim (excerpt)：
処理塔に処理流体を導入し、処理塔内で処理流体に物理的および/または化学的処理を施し、処理が施された流体の一部を処理塔の塔頂側から取り出し、塔頂側から取り出されずに残った残存流体を処理塔の塔底側から抜き出す塔式処理方法であって、前記処理塔内で前記処理を進行させながら、処理塔の塔底側から処理塔の外に処理流体を抜き出す工程(a) と、工程(a) で抜き出された処理流体から固形不純物を除去する工程(b) と、工程(b) で固形不純物が除去された処理流体を処理塔に戻す工程(c) とを継続的に行う塔式処理方法。
IPC (9)：
B01J 19/00 ,  B01D 3/00 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/00 ,  C07C 51/46 ,  C07C 57/07 ,  C07C 57/075 ,  C07C 67/54 ,  C07C 69/54
FI (9)：
B01J 19/00 B ,  B01D 3/00 Z ,  C07B 61/00 C ,  C07B 63/00 A ,  C07C 51/46 ,  C07C 57/07 ,  C07C 57/075 ,  C07C 67/54 ,  C07C 69/54 Z
F-Term (36)：
4D076AA16 ,  4D076BB03 ,  4D076BB05 ,  4D076BB08 ,  4D076BB23 ,  4D076BB27 ,  4D076CC06 ,  4D076DA03 ,  4D076FA04 ,  4D076FA18 ,  4D076GA03 ,  4D076HA11 ,  4D076HA20 ,  4D076JA02 ,  4D076JA03 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075BB01 ,  4G075BB02 ,  4G075BB03 ,  4G075BB04 ,  4G075BB05 ,  4G075BB07 ,  4G075BD23 ,  4G075CA02 ,  4G075CA51 ,  4G075EA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB04 ,  4H006AA02 ,  4H006AD12 ,  4H006AD17 ,  4H006AD41 ,  4H006BB16 ,  4H006BD80 ,  4H006BD84
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (10)
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