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J-GLOBAL ID：200903086489753232

吸着式ガス発生装置

Inventor： 河合 正毅
Applicant, Patent owner： トキコ株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992060723
Publication number (International publication number)：1993261234
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】【構成】 本願発明は、所定のガス成分を吸着する吸着材24が封入された吸着槽32を具備し、加圧した空気を吸着槽32内に導入し、吸着材24により空気分子篩を行い所定のガス分子を取り出す吸着式ガス発生装置において、吸着槽32内の側壁34に内方へ突出する複数の仕切壁35a,36a,...を設け、仕切壁35a,36a,...は隣接する仕切壁35a,36aのそれぞれの突出する方向が互いに異なることを特徴とする。また、前記仕切壁間の側壁34に吸着材24を封入するための封入口41a,41b,...を設けてもよい。【効果】 設置状態に拘わりなく吸着状態を良好に保持することができ、導入された空気を吸着材と十分に接触させることができ、従来の様に接触しないままに外方へ取り出されることがなくなる。したがって、純度の高いガス分子を取り出すことができる。

Claim (excerpt)：

所定のガス成分を吸着する吸着材が封入された吸着槽を具備し、加圧した空気を前記吸着槽内に導入し、前記吸着材により空気分子篩を行い所定のガス分子を取り出す吸着式ガス発生装置において、前記吸着槽内の側壁に、該側壁から内方へ突出する複数の仕切壁を設け、これらの仕切壁は、隣接する仕切壁のそれぞれの突出する方向が互いに異なることを特徴とする吸着式ガス発生装置。