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J-GLOBAL ID：200903086512077410

周辺露光装置

Inventor： 加茂野 隆
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992040616
Publication number (International publication number)：1993217885
Application date： Jan. 31, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ファイバー移動による塵埃や異物発生の問題をなくしかつ露光境界部の現像レジスト断面の傾斜を鋭くした周辺露光装置を提供する。【構成】 レジスト2を塗布したウエハ1を露光するための光学系と該光学系内に組み込まれた絞り3bとを具備し、前記光学系の光射出端部とウエハとの間にウエハ搬送に必要な間隔を設けかつ絞りとウエハのレジスト塗布面とが共役の関係になるように光学系を配置し、前記絞りの形状は直線部分を有し、この直線部分側をウエハの中心側に向けて配置して絞りの直線部分の像をウエハ周辺部側の露光領域とウエハ内部側の非露光領域の境界上に形成した。

Claim (excerpt)：

レジストを塗布したウエハを露光するための光学系と該光学系内に組み込まれた絞りとを具備し、前記光学系の光射出端部とウエハとの間にウエハ搬送に必要な間隔を設けかつ絞りとウエハのレジスト塗布面とが共役の関係になるように光学系を配置し、前記絞りの形状は直線部分を有し、この直線部分側をウエハの中心側に向けて配置し、絞りの直線部分の像をウエハ周辺部側の露光領域とウエハ内部側の非露光領域の境界上に形成したことを特徴とする周辺露光装置。