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J-GLOBAL ID:200903086541006343
補強された3帯の微孔性膜の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000536552
Publication number (International publication number):2002509013
Application date: Jan. 15, 1999
Publication date: Mar. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 3帯の、連続した、補強され、ラミネートされていない、幾何学的に対称的な微孔性膜を製造するための装置を提供する。【解決手段】 上方帯及び下方帯の間に配置された中間帯内にある多孔性保持帯を含む3帯の、補強され、連続し、幾何学的に対称的な微孔性膜であって、該3帯のうち少なくとも1帯が、他の2帯の孔サイズより少なくとも20%大きな孔サイズを有する膜を造る課程が開示されている。3帯の、補強され、連続した、幾何学的に対称的な微孔性膜及び造られた膜が開示される。
Claim (excerpt):
3帯の、連続し、補強された微孔性膜の製造方法であって、当該方法は、 第1及び第2側面を有する連続した保持体を用意し、 第1ダイ手段を用いる第1ポリマードープを、保持体に少なくとも実質的に圧力含浸させ、 連続した保持体に含浸されるポリマードープを、実質的に対向する第2及び第3ダイ手段間に通過させ、 連続した保持体に含浸される第1ポリマードープの両側面を、少なくとも1つの追加的なポリマードープで、実質的に同時に被覆する、該微孔性膜を形成する工程より成る。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (14):
4D006GA02
, 4D006MA09
, 4D006MA21
, 4D006MA22
, 4D006MC22X
, 4D006MC23X
, 4D006MC29X
, 4D006MC48X
, 4D006MC54X
, 4D006MC55X
, 4D006NA16
, 4D006NA46
, 4D006NA62
, 4D006NA75
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭58-112005
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補強された3帯の微孔性膜
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-536474
Applicant:キューノ・インコーポレイテッド
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