Pat
J-GLOBAL ID:200903086568684319

光露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高田 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993322546
Publication number (International publication number):1995176467
Application date: Dec. 21, 1993
Publication date: Jul. 14, 1995
Summary:
【要約】【目的】 装置内で発生する乱反射光を発散、放出させることにより乱反射光の光経路への再入射を抑制し、解像度が向上する光露光装置を得る。【構成】 光露光装置の側壁3bの表面を多数の半球体12で覆うように構成し、半球体12の表面で乱反射光17を多数の方向18a〜18dに反射させることにより、光経路21への再入射を低減する。
Claim (excerpt):
光源と、上記光源の発する光の予め定められた経路に設けられたマスクと、上記光を集光した後上記マスクに照射し、上記マスクのパターンを投影する光学系とを備える光露光装置において、上記光の経路側壁の表面を、半球体状の多数の凸部により構成したことを特徴とする光露光装置。
IPC (4):
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/54 ,  G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527

Return to Previous Page