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J-GLOBAL ID：200903086615208113

水素ガス製造装置

Inventor： 飯塚 秀宏 ,  加藤 明 ,  小関 康雄 ,  宮寺 博
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994096111
Publication number (International publication number)：1995300301
Application date： May. 10, 1994
Publication date： Nov. 14, 1995
Summary：

【要約】【構成】水とGaを29.8 °C以上100°C以下に保温しながら、機械的に撹拌することで、水素ガスを連続的に発生させることが可能であり、また撹拌速度により水素ガス生成量の制御及び還元ガスによるGaの再生を可能とする水素ガス製造装置。【効果】大気圧下、室温程度で液体Gaと水を接触させることにより、水素ガスを製造できるため、省スペース及びエネルギが可能である。

Claim (excerpt)：

容器内に水とガリウムを入れ、29.8 °C以上100°C以下に保温しながら撹拌装置により機械的に撹拌することにより水素ガスを得て、前記容器の上部に水素排出装置を有することを特徴とする水素ガス製造装置。