Pat
J-GLOBAL ID:200903086641352940

ガラス-セラミック焼結体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995105315
Publication number (International publication number):1996301651
Application date: Apr. 28, 1995
Publication date: Nov. 19, 1996
Summary:
【要約】【構成】SiO2 、Al2 O3 、MgO、ZnOおよびB2 O3 からなるガラスを30〜80重量%と、TiO2 を70〜20重量%となる割合で混合した混合粉末を成形後、850°C〜1000°Cの酸化性雰囲気あるいは非酸化性雰囲気中で焼成し、TiO2 結晶相1と、スピネル型結晶相2およびガラス相3を含むガラス-セラミック焼結体を得る。【効果】高い誘電率と強度を有するために、マイクロ波用回路素子等において小型化が可能となり、さらに、基板材料の高強度化により入出力端子部に施すリードの接合や実装における基板の信頼性を向上できる。しかも、850〜1000°Cで焼成されるため、Au、Ag、Cu等による配線を同時焼成により形成することができる。
Claim (excerpt):
金属元素として、少なくともTi、Si、Al、Mg、ZnおよびBを含み、Tiを酸化物換算で全量中20〜70重量%と、Si、Al、Mg、ZnおよびBを酸化物換算による合量で30〜80重量%の割合で含むガラス-セラミック焼結体であって、該焼結体が、TiO2 結晶相と、スピネル型結晶相およびガラス相を含むことを特徴とするガラス-セラミック焼結体。

Return to Previous Page