Pat
J-GLOBAL ID:200903086648163719
ピストンリング
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
村井 卓雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992058760
Publication number (International publication number):1993223172
Application date: Feb. 13, 1992
Publication date: Aug. 31, 1993
Summary:
【要約】【目的】 窒化クロム皮膜を施したピストンリングの皮膜耐摩耗性及び密着性を改良する。【構成】 ピストンリング母材3の少なくとも外周摺動面5に、窒化クロムと窒化珪素よりなるイオンプレーティング皮膜5Aを1〜40μmの厚さに形成する。
Claim (excerpt):
ピストンリング母材(3)の少なくとも外周摺動面(5)に、窒化クロムと窒化珪素よりなるイオンプレーティング皮膜(5A)が1〜40μmの厚さで形成されていることを特徴とするピストンリング。
IPC (4):
F16J 9/26
, C23C 14/06
, C23C 14/32
, F02F 5/00
Patent cited by the Patent:
Return to Previous Page