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J-GLOBAL ID：200903086670817200

有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法

Inventor： 大澤 公伸 ,  小泉 求
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994176777
Publication number (International publication number)：1996039059
Application date： Jul. 28, 1994
Publication date： Feb. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 半導体製造工程から排出される有機アルカリを含む半導体洗浄排水を強酸性カチオン交換樹脂(SC)塔に通水して有機アルカリを吸着除去する方法において、SC塔における有機アルカリの吸着除去を安定かつ効率的に行う。【構成】 有機アルカリを含む半導体洗浄排水を活性炭層1、弱塩基性アニオン交換樹脂層2、強塩基性アニオン交換樹脂層3及び強酸性カチオン交換樹脂層4に順次通水する。【効果】 SC層4の前段にSA層3を設けることにより、SC層流入水のpHが安定し、アニオン負荷の変動に影響されることなく、SC層流入水のpHを常にアルカリ側に維持することが可能となる。有機アルカリの吸着除去が安定かつ効率化される。

Claim (excerpt)：

有機アルカリを含む半導体洗浄排水を活性炭層、弱塩基性アニオン交換樹脂層、強塩基性アニオン交換樹脂層及び強酸性カチオン交換樹脂層に順次通水することを特徴とする有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法。

IPC (8)：

C02F 1/42 ZAB ,  B01J 41/04 ,  C02F 1/28 ZAB ,  C02F 9/00 ZAB ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504