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J-GLOBAL ID：200903086679584950

多層フィルムの応力により生じる光学素子の変形を調節する方法

Inventor： クロード、モントカーム ,  ポール、ビー.ミアカリミ
Applicant, Patent owner： ザ、リージェンツ、オブ、ザ、ユニバーシティ、オブ、カリフォルニア
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000532776
Publication number (International publication number)：2002504715
Application date： Feb. 17, 1999
Publication date： Feb. 12, 2002
Summary：

【要約】多層フィルムの応力を打ち消す為に、基板と多層フィルムの間に設ける緩衝層。十分な大きさであって、符号が反対の応力をもつ緩衝層を設けると、多層フィルムの応力による基板の変形が減少するか、もしくは相殺される。基板と多層フィルムの間に緩衝層を設けることにより、調整可能なゼロに近い正味応力が得られ、その結果、極端紫外(EUV)リソグラフィーツール用の光学素子のような基板が、殆ど、もしくは全く変形しなくなる。例えば、Mo/Si多層フィルム、及びMo/Be多層フィルムと、それらの基板との間に緩衝層を設けて応力を著しく低下させた。この場合、応力の大きさは100MPa未満であり、またそれぞれ13.4nm、及び11.4nmで、近垂直入射(5°)反射率が60%を越える。本発明は、結晶性の物質、及び非結晶性の物質に適用可能であり、しかも周囲温度で用いることができる。

Claim (excerpt)：

反射率を5%より多く低下させずに多層フィルムの応力の大きさを調節するか、または小さくするための手段であって、多層フィルムと基板の中間に設けられた緩衝層からなる手段、を含んでなる、高反射率物質の多層フィルム及び基板。

IPC (3)：

G02B 5/28 ,  G02B 5/26 ,  G21K 1/06

FI (4)：

G02B 5/28 ,  G02B 5/26 ,  G21K 1/06 B ,  G21K 1/06 C

F-Term (8)：

2H048GA07 ,  2H048GA09 ,  2H048GA18 ,  2H048GA19 ,  2H048GA32 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61