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J-GLOBAL ID：200903086697709042
マイクロ波を用いた銅ナノ粒子の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
三好 秀和
, 伊藤 正和
, 原 裕子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007242572
Publication number (International publication number)：2008075181
Application date： Sep. 19, 2007
Publication date： Apr. 03, 2008
Summary：
【課題】狭い粒度分布を有し、分散性に優れた数十ナノメートルの大きさの銅ナノ粒子を大量に合成できる銅ナノ粒子の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、(a)銅塩、分散剤、還元剤及び有機溶媒を含む混合溶液を調製する段階と、(b)前記混合溶液の温度を30ないし50°Cに昇温させて撹拌する段階と、(c)前記混合溶液にマイクロ波を照射する段階と、及び(d)前記混合溶液の温度を低下させて銅ナノ粒子を得る段階と、を含む銅ナノ粒子の製造方法を提供する。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
(a)銅塩、分散剤、還元剤及び有機溶媒を含む混合溶液を調製する段階と、
(b)前記混合溶液の温度を30ないし50°Cに昇温させて撹拌する段階と、
(c)前記混合溶液にマイクロ波を照射する段階と、及び
(d)前記混合溶液の温度を低下させて銅ナノ粒子を得る段階と
を含む銅ナノ粒子の製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
B22F9/24 B
, H01B13/00 501Z
4K017AA03
, 4K017BA05
, 4K017CA08
, 4K017DA01
, 4K017DA07
, 4K017EJ01
, 4K017EJ02
, 4K017FB07
, 4K017FB11
Cited by applicant (3)
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日本公開特許平02-294414号
-
韓国公開特許第2005-3169号
-
日本公開特許第2004-353038号
Cited by examiner (7)
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Article cited by the Patent：
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