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J-GLOBAL ID：200903086722631142

測定装置

Inventor：
納谷 昌之

About 納谷 昌之


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003028060
Publication number (International publication number)：2004239715
Application date： Feb. 05, 2003
Publication date： Aug. 26, 2004
Summary：
【課題】薄膜層の上に試料中の特定物質と結合するセンシング物質が固定された表面プラズモン共鳴測定装置等の測定装置において、より多くの試料を並行して分析可能にする。【解決手段】誘電体ブロック10と、その一面に形成されて試料30に接触させられる薄膜層12と、その上に形成されたセンシング物質11と、光ビーム3を発生させる光源4と、光ビーム3を誘電体ブロック10に対して、それと薄膜層12との界面10aで全反射可能に入射させる入射光学系15と、全反射した光ビーム3の強度を検出する2次元光検出手段20とを備えてなる測定装置において、薄膜層12および/またはセンシング物質11を、薄膜層12に対する光ビーム3の入射面と平行な方向のサイズが該薄膜層12と光ビーム3との相互作用長以上で、該入射面と直交する方向のサイズが上記相互作用長よりも小さい形状とした上で、上記入射面と平行な方向および直交する方向に複数並べて設ける。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されて試料に接触させられる、該誘電体ブロックよりも低屈折率の薄膜層と、 この薄膜層の上に形成されて試料中の特定物質と結合するセンシング物質と、 光ビームを発生させる光源と、 前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られるように入射させる入射光学系と、 前記界面で全反射した光ビームの強度を、そのビーム断面内の複数の位置毎に測定する2次元光検出手段とを備えてなる測定装置において、 前記薄膜層および/またはセンシング物質が、薄膜層に対する前記光ビームの入射面と平行な方向のサイズが該薄膜層と光ビームとの相互作用長以上で、該入射面と直交する方向のサイズが前記相互作用長よりも小さい形状とされた上で、前記入射面と平行な方向および直交する方向に複数並べて設けられていることを特徴とする測定装置。
IPC (1)：
G01N21/27
FI (1)：
G01N21/27 C
F-Term (16)：
2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059FF11 ,  2G059GG01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059KK04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (14)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)

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