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J-GLOBAL ID：200903086743207600

減圧処理装置

Inventor： 小美野 光明
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 井上 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993190858
Publication number (International publication number)：1995022404
Application date： Jul. 02, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】 伝熱経路に形成された間隙部内に封入されるHeガス等の伝熱媒体の挙動に鑑みHeガスの封入部での構造破壊を未然に防止することのできる構造を備えた減圧処理装置を提供すること。【構成】 載置台16を冷却するための冷却媒体72を収容している冷媒貯留部74と、上記冷媒貯留部74と上記載置台16との間の間隙部90、92に伝熱媒体を供給する手段104,116とを備え、上記伝熱媒体の供給手段104、116は、該伝熱媒体の露点を上記冷却媒体72の温度以下に設定されている。このため、伝熱媒体は冷却媒体72による冷却が行なわれても結露することがないので、氷結する際の体積膨張による伝熱経路の構造破壊を防止することができる。

Claim (excerpt)：

被処理体を載置固定する載置台と、上記載置台を冷却するための冷却媒体を収容している冷媒貯留部と、上記冷媒貯留部と上記載置台との間の間隙部に伝熱媒体を供給する手段と、を備え、上記伝熱媒体の供給手段は、該伝熱媒体の露点を上記冷却媒体の温度以下に設定することを特徴とする減圧処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/265

FI (2)：

H01L 21/302 J ,  H01L 21/265 E