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J-GLOBAL ID:200903086748449318

位相空間光変調方法および位相空間光変調素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997064694
Publication number (International publication number):1998260428
Application date: Mar. 18, 1997
Publication date: Sep. 29, 1998
Summary:
【要約】【課題】 位相空間光変調素子の構成を簡単にし、かつ、応答速度を速める。【解決手段】 最大直径が150nm以下の液晶微粒子が分散し、垂直入射光に対して光学的に等方的な光透過性媒体に垂直方向の電界を印加して、光透過性媒体の屈折率を変化させて、媒体の面内方向に屈折率分布を生じさせる工程、および光を光透過性媒体に垂直に入射し、媒体からの反射光あるいは媒体を透過する光の位相を変調する工程を有する。
Claim (excerpt):
最大直径が150nm以下の液晶微粒子が分散し、垂直入射光に対して光学的に等方的な光透過性媒体に垂直方向の電界を印加し、前記光透過性媒体の屈折率を変化させて前記媒体の面内方向に屈折率分布を生じさせる工程、および光を前記光透過性媒体に垂直に入射し、前記媒体からの反射光あるいは前記媒体を透過する光の位相を変調する工程を有することを特徴とする位相空間光変調方法。
IPC (3):
G02F 1/135 ,  G02F 1/1333 ,  G09F 9/35 305
FI (3):
G02F 1/135 ,  G02F 1/1333 ,  G09F 9/35 305

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