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J-GLOBAL ID:200903086756553590
位相差フィルムの製造方法およびその装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
前田 純博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997178354
Publication number (International publication number):1999019954
Application date: Jul. 03, 1997
Publication date: Jan. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 厚み、レターデーションの範囲、並びに微小な範囲のレターデーションの斑が小さく、遅相軸の大きさも小さく良好でかつ均一性に優れており、また透明性に優れ、スクラッチや擦り傷が無い、光学用途に好適な高分子の位相差フィルムを製造する。【解決手段】 高分子の溶液を支持体上に流延し、液膜を形成し支持体より剥離して乾燥した後、一軸延伸し、冷却して位相差フィルムを製造する方法において、該一軸延伸を第1段階の延伸および第2段階の延伸で行ない、かつ該第2段階の延伸を該第1段階の延伸の温度よりも1〜20°C高い温度で行って位相差フィルムを製造する。
Claim (excerpt):
(1)高分子溶液を支持体上に流延し、(2)形成された溶媒含有フィルムを支持体より剥離して、(3)乾燥した後、(4)一軸延伸し、位相差フィルムを製造する方法において、該一軸延伸工程(4)を第1段階の延伸および第2段階の延伸で行ない、かつ該第2段階の延伸の温度が該第1段階の延伸の温度よりも1〜20°C高いことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
IPC (5):
B29C 41/24
, B29C 55/02
, G02B 5/30
, B29K 69:00
, B29L 11:00
FI (3):
B29C 41/24
, B29C 55/02
, G02B 5/30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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