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J-GLOBAL ID:200903086760084147

MALDI質量分析機用サンプル濃縮MALDIプレート

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  栗田 忠彦
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003500524
Publication number (International publication number):2004530136
Application date: May. 24, 2002
Publication date: Sep. 30, 2004
Summary:
マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析(MALDI-MS)用の新規なサンプル支持プレートが開示されている。この支持プレートにはサンプル提示用上面と下面とがあり、サンプル提示用上面には1つ以上のサンプル受け入れ用の穴がある。この穴は、サンプル提示用上面と下面とを通って、サンプル提示用上面と下面との間にある。この穴には、サンプル中に含まれる分析対象とマトリックス分子とをターゲットスポットに保持・濃縮する多孔性材料が充填されている。また、従来のMALDI-MS、および自動MALDI-MSにおいて、本発明のサンプル支持プレートを作製し、使用する方法についても開示されている。
Claim (excerpt):
サンプル提示用上面と下面とを備えたマトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析(MALDI-MS)用サンプル支持プレートであって、前記サンプル提示用上面には1以上のサンプル受け入れ穴があり、 前記穴はサンプル提示用上面と下面とを通って、サンプル提示用上面と下面との間にあり、前記穴には、サンプル中に含まれる分析対象とマトリックス分子とを前記穴の表面で保持・濃縮するための多孔性材料が充填されている、前記サンプル支持プレート。
IPC (3):
G01N1/36 ,  G01N1/00 ,  G01N27/62
FI (3):
G01N1/28 Z ,  G01N1/00 101H ,  G01N27/62 E
F-Term (5):
2G052AD06 ,  2G052AD46 ,  2G052DA05 ,  2G052ED01 ,  2G052ED06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • MALDI分析の方法および装置
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願平10-514750   Applicant:シークエノム・インコーポレーテツド

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