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J-GLOBAL ID：200903086806109549

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 伊藤 邦男 ,  堀内 良昭 ,  北野 慶
Applicant, Patent owner： ナガセ電子化学株式会社
Agent (1)： 塩出 真一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998345381
Publication number (International publication number)：2000171968
Application date： Dec. 04, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、キノンジアジド基含有化合物とからなる基本組成に対し、この基本組成の100重量部当り0.01〜20重量部の一般式化1で表わされるベンゾトリアゾール類(I)の中から選ばれた少なくとも1種類を含有させたポジ型フォトレジスト組成物。【化1】【効果】 レジストの保存安定性を損なうことなく、半導体デバイスやTFT(薄膜トランジスタ)などの製造における各種基板に対する現像時及びウェットエッチング時の密着性に優れたレジストパターンを形成させる。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、キノンジアジド基含有化合物とからなる基本組成に対し、この基本組成の100重量部当り0.01〜20重量部の一般式化1で表わされるベンゾトリアゾール類(I)の中から選ばれた少なくとも1種類を含有させたことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/085 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/085 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (6)：

2H025AA14 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CC06