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J-GLOBAL ID：200903086912902398

非水電解液用電解質の製造方法

Inventor： 小林 幸哉 ,  清家 英雄
Applicant, Patent owner： 三洋化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999086174
Publication number (International publication number)：2000277125
Application date： Mar. 29, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】 着色等の変質や副生物等の発生がなく、極めて低い水分レベルが得られる非水電解液用電解質の製造方法。【解決手段】 非水電解液用電解質において、水分を含んだ電解質に、プロトン性極性溶媒を添加した後、この溶媒を蒸留により留去することに伴い水分を除去することを特徴とする非水電解液用電解質の製造方法。

Claim (excerpt)：

非水電解液用電解質において、水分を含んだ電解質に、プロトン性極性溶媒を添加した後、この溶媒を蒸留により留去することに伴い水分を除去することを特徴とする非水電解液用電解質の製造方法。

IPC (3)：

H01M 6/16 ,  H01G 9/038 ,  H01M 10/40

FI (3)：

H01M 6/16 A ,  H01M 10/40 A ,  H01G 9/00 301 D

F-Term (16)：

5H024AA12 ,  5H024BB03 ,  5H024DD17 ,  5H024EE09 ,  5H024FF11 ,  5H024FF19 ,  5H024HH11 ,  5H029AJ14 ,  5H029AM02 ,  5H029AM07 ,  5H029CJ12 ,  5H029CJ13 ,  5H029DJ09 ,  5H029EJ03 ,  5H029EJ11 ,  5H029HJ14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭61-254216