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J-GLOBAL ID：200903086936372098

レーザ描画装置

Inventor： 古澤 宏一 ,  塩谷 慎吾 ,  伊藤 栄一 ,  山本 清
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 三浦 邦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996153842
Publication number (International publication number)：1997122942
Application date： Jun. 14, 1996
Publication date： May. 13, 1997
Summary：

【要約】【目的】熱作用を利用したレーザ描画装置において、コンパクトな構成で高速描画を可能にする。【構成】描画用レーザ光源11および予熱用レーザ光源19と、これらのレーザ光源11、19から射出された描画用レーザ光および予熱用レーザ光を、反射し、偏向して同期走査するスキャニングミラー15とを備え、熱書込み液晶セル21に文字、図形などの画像を、予熱用レーザ光で予熱しながら描画用レーザ光で描画するレーザ描画装置。

Claim (excerpt)：

レーザ光の熱作用により被描画部材に描画するレーザ描画装置であって、前記描画用レーザ光とは別の予熱用レーザ光によって前記被描画部材を加熱しながら前記描画用レーザ光で描画すること、を特徴とするレーザ描画装置。

IPC (3)：

B23K 26/00 ,  G02F 1/13 102 ,  G02F 1/133 565

FI (4)：

B23K 26/00 C ,  B23K 26/00 H ,  G02F 1/13 102 ,  G02F 1/133 565