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J-GLOBAL ID：200903086944187437

レジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  藤森 亨 ,  土村 智孝
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002238272
Publication number (International publication number)：2004077817
Application date： Aug. 19, 2002
Publication date： Mar. 11, 2004
Summary：

【課題】コンタクトホールパターン作製の際、デフォーカスラチチュード、プロファイル、サイドローブマージンが良好なレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び(C)長鎖アルキル基とアルカリ可溶性基とを含有する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び(C)長鎖アルキル基とアルカリ可溶性基とを含有する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

F-Term (9)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20