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J-GLOBAL ID：200903086949896819

発光ダイオードの製造方法

Inventor： フレッド・エイ・キッシュ ,  フランク・エム・ステランカ ,  デニス・シー・デフェヴレ ,  ヴァージニア・エム・ロビンス ,  ジョン・ウエビング
Applicant, Patent owner： ヒューレット・パッカード・カンパニー
Agent (1)： 遠藤 恭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994064528
Publication number (International publication number)：1994302857
Application date： Mar. 08, 1994
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 所望の機械的特性と透光性を有する発光ダイオードを製造することができ、かつ透明層と成長層との境界面の抵抗率を最小限にすることができる発光ダオードの製造方法を提供することを目的とする。【構成】 一時的成長基板上に発光ダイオード層32,34,36,38を順次成長させ、比較的薄い層の発光ダイオード構造40を形成後、一時的成長基板を除去し、一時的成長基板に代えてその位置に下層の緩衝層となる発光ダイオード層32に導電性、透光性基板42をウェーハ接合して発光ダイオードを製造する。

Claim (excerpt)：

所望の機械特性を有する発光ダイオード層(32,34,36及び38)の製造と適応性がある特性を有する第1材料を選択し;選択された第1材料から成る第1基板(30)を設け;第1基板上に発光ダイオード層を製造することによって発光ダイオード基板(40)を形成し;発光ダイオード構造の性能の向上に適する透光性材料を選択し;および選択された透光性材料の透明層(42)を発光ダイオード層にウェーハ・ボンディングする;工程とからなる発光ダイオードの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 発光ダイオードの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-320334   Applicant：シャープ株式会社
• 特開平4-212479
  
• 特開昭61-183986
  
• 特開平4-166011
  
• 特開平4-119626
  
• 特開平4-130675