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J-GLOBAL ID：200903086950496441

粉粒体処理装置

Inventor： 辻本 広行
Applicant, Patent owner： ホソカワミクロン株式会社
Agent (1)： 北村 修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999342012
Publication number (International publication number)：2001149770
Application date： Dec. 01, 1999
Publication date： Jun. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】 粉粒体への帯電を有効に阻止しつつ、粉粒体の造粒・乾燥・コーティング等の処理を行い得る粉粒体処理装置を提供する。【解決手段】 粉粒体Fの処理を行うために、装置本体1の内部下方に粉粒体Fを貯留する処理部2を備えると共に、処理部2に貯留した粉粒体Fに下方から流動用エアー5を供給して流動床を形成するために、処理部2の下方にエアー吹出部4を備え、流動床に対して高圧エアー7を吹き付けるジェットノズル6を備えた粉粒体処理装置であって、ジェットノズル6からイオン化した高圧エアー7を吹き出させるべく、ジェットノズル6にエアーイオン化手段S1を備えている。

Claim (excerpt)：

粉粒体の処理を行うために、装置本体の内部下方に前記粉粒体を貯留する処理部を備えると共に、前記処理部に貯留した粉粒体に下方から流動用エアーを供給して流動床を形成するために、前記処理部の下方にエアー吹出部を備え、前記流動床に対して高圧エアーを吹き付けるジェットノズルを備えた粉粒体処理装置であって、前記ジェットノズルからイオン化した高圧エアーを吹き出させるべく、前記ジェットノズルにエアーイオン化手段を備えている粉粒体処理装置。

IPC (6)：

B01J 19/00 ,  B01J 2/00 ,  B01J 2/16 ,  B01J 8/24 311 ,  B05B 7/14 ,  F26B 17/10

FI (6)：

B01J 19/00 N ,  B01J 2/00 B ,  B01J 2/16 ,  B01J 8/24 311 ,  B05B 7/14 ,  F26B 17/10 C

F-Term (39)：

3L113AA07 ,  3L113AB03 ,  3L113AC01 ,  3L113AC05 ,  3L113AC20 ,  3L113AC48 ,  3L113BA02 ,  3L113DA05 ,  3L113DA21 ,  4F033QA08 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB05 ,  4F033QB12Y ,  4F033QB15Y ,  4F033QB19 ,  4F033QD25 ,  4F033QF02Y ,  4F033QF07Y ,  4F033QH05 ,  4F033QH10 ,  4G004BA02 ,  4G004KA02 ,  4G004KA03 ,  4G004KA06 ,  4G070AA03 ,  4G070AB02 ,  4G070BA02 ,  4G070BB32 ,  4G070BB37 ,  4G070CB10 ,  4G070CB13 ,  4G075AA27 ,  4G075AA63 ,  4G075BB08 ,  4G075BC08 ,  4G075BD14 ,  4G075BD16 ,  4G075EC01 ,  4G075ED08