感光性組成物及び該組成物を用いた構造体の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：西山恵三 , 内尾裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006056492
Publication number (International publication number)：2006293326
Application date： Mar. 02, 2006
Publication date： Oct. 26, 2006
Summary：

【課題】耐熱性が高いミクロ相分離構造のパターンを形成するための感光性組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 (A)アルコキシシリル基を含有する単量体を繰り返し単位としてなるセグメントを含むブロックコポリマーと、(B)感光性分解剤とを含有し、前記ブロックポリマーの分子量分布指数(Mw/Mn)が1.8以下である感光性組成物を提供するものである。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)アルコキシシリル基を含有する単量体を繰り返し単位としてなるセグメントを含むブロックコポリマーと、 (B)感光性分解剤とを含有し、前記ブロックポリマーの分子量分布指数(Mw/Mn)が1.8以下であることを特徴とする感光性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 , G03F 7/075 , G03F 7/004 , G03F 7/40 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F7/038 601 , G03F7/075 511 , G03F7/004 501 , G03F7/40 501 , H01L21/30 502R

F-Term (23)：

2H025AA10 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB41 , 2H025CB56 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA29 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096BA06 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096FA01 , 2H096GA02 , 2H096HA01 , 2H096JA03 , 2H096JA04 , 2H096LA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ナノパターン形成方法、ナノパターン形成材料および電子部品の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-084993 Applicant：株式会社東芝

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