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J-GLOBAL ID：200903086979997016

ポリスルホン系膜及び逆浸透複合膜

Inventor： 池田 健一
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Agent (1)： 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992140367
Publication number (International publication number)：1993329345
Application date： Jun. 01, 1992
Publication date： Dec. 14, 1993
Summary：

【要約】【目的】ポリスルホン系膜の低分子量物を抽出除去することにより、ポリスルホン系膜自体から発生する微粒子、すなわち低分子量ポリスルホンなどを低減し、分離した後の流体にポリスルホン系膜に起因するコンタミを少なくする。【構成】限外濾過膜または精密濾過膜などに使用するポリスルホン系膜を製膜前または製膜後にオリゴマーなどを抽出除去する。これにより低分子量ポリスルホンなどを低減し、精製流体中にポリスルホン系膜に起因するコンタミが混入することを防止できる。またこの膜を支持膜とし表面に活性層を設けた複合膜においても同様の効果がある。とくにアルコールを含有する溶液の分離に顕著な効果を発揮できる。

Claim (excerpt)：

物質分離膜または物質分離用支持膜として用いるポリスルホン系膜であって、前記ポリスルホン系膜は低分子量物を抽出除去されたものであることを特徴とするポリスルホン系膜。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-062835
  
• 特開昭62-183836