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J-GLOBAL ID：200903086991745880
シリカ除去装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993283597
Publication number (International publication number)：1995136648
Application date： Nov. 12, 1993
Publication date： May. 30, 1995
Summary：
【要約】【目的】 極低濃度シリカ水を得る。【構成】 SiO2 を含む被処理水2にフッ酸をフッ酸供給装置4によって供給してSiO2 をSiF62- とし、生じたSiF62- を強塩基性アニオン交換樹脂を有するシリカ除去ユニット8で除去して処理水10を得る。
Claim (excerpt)：
少なくとも強塩基性アニオン交換樹脂を有するイオン交換装置、逆浸透膜装置、及び少なくとも強塩基性アニオン交換樹脂を充填してなる電気式脱イオン水製造装置から選ばれる少なくとも1のシリカ除去ユニットと、前記除去ユニットに供給するシリカを含有した被処理水にフッ酸を注入するフッ酸供給装置とからなり被処理水中のシリカを除去して処理水を得ることを特徴とする被処理水中のシリカ除去装置。
IPC (3)：
C02F 1/42
, C02F 1/44
, C02F 1/469
