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J-GLOBAL ID：200903087051288177

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法

Inventor： 仁王 宏之 ,  田村 一貴 ,  大林 元太郎
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999106857
Publication number (International publication number)：2000298346
Application date： Apr. 14, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】下記一般式(1)および(2)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有し、該重合体中のAが酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生成する有機基であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法。【化1】【化2】(Xはハロゲン原子またはシアノ基、Yは炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基である。Aはシリル基を1つ以上有する有機基、Gは炭素数1〜10のハロアルキル基、ハロアリール基、ハロアラルキル基を表す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)および(2)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有し、該重合体中のAが酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生成する有機基であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】【化2】(Xはハロゲン原子またはシアノ基、Yは炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基である。Aはシリル基を1つ以上有する有機基、Gは炭素数1〜10のハロアルキル基、ハロアリール基、ハロアラルキル基を表す。)

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (16)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB15 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025EA04 ,  2H025EA10 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17