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J-GLOBAL ID：200903087066469240

化学気相蒸着用の有機金属化合物及び化学気相蒸着用の有機金属化合物の製造方法並びに貴金属薄膜及び貴金属化合物薄膜の化学気相蒸着方法

Inventor：
岡本 浩治

About 岡本 浩治


Applicant, Patent owner：
田中貴金属工業株式会社

About 田中貴金属工業株式会社


Agent (1)： 田中 大輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000310503
Publication number (International publication number)：2002114795
Application date： Oct. 11, 2000
Publication date： Apr. 16, 2002
Summary：
【要約】【解決課題】 従来のビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム及びエチルシクロペンタジエニル(1,5-シクロオクタジエン)イリジウムが有するCVD原料としての優れた特性を具備し、且つ、酸素に対して安定性が高い化学気相蒸着用の有機金属化合物を提供することを目的とする。【解決手段】 本願の1の発明は、化学気相蒸着法によりルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜を製造するための有機金属化合物であって、n-ブチル基、iso-ブチル基、tert-ブチル基が置換されたアルキルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ルテニウムである。また、第2の発明としては、化学気相蒸着法によりイリジウム薄膜又はイリジウム酸化物薄膜を製造するための有機金属化合物であって、n-プロピル基、iso-プロピル基又はn-ブチル基、iso-ブチル基、tert-ブチル基のいずれかのアルキル基で置換されたアルキルシクロペンタジエニル(1,5-シクロオクタジエン)イリジウムからなる化学気相蒸着用の有機金属化合物である。
Claim (excerpt)：
化学気相蒸着法によりルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜を製造するための有機金属化合物であって、次式で示される、ブチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ルテニウムからなる化学気相蒸着用の有機金属化合物。【化1】(式中、置換基であるR1は、n-ブチル基、iso-ブチル基、tert-ブチル基のいずれかのブチル基を示す。)
IPC (3)：
C07F 17/02 ,  C07F 15/00 ,  C23C 16/18
FI (4)：
C07F 17/02 ,  C07F 15/00 A ,  C07F 15/00 E ,  C23C 16/18
F-Term (8)：
4H050AB91 ,  4H050AB99 ,  4H050WB11 ,  4H050WB21 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA01 ,  4K030FA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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