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J-GLOBAL ID：200903087074337752
投影露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992182051
Publication number (International publication number)：1994029186
Application date： Jul. 09, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ウェハ等の感光基板の周辺部分に露光される欠けショットのフォーカス合わせを可能とする。【構成】 基板周縁に一定幅の禁止帯を設定し、この禁止帯の中だけに一部分が入り込み、残りの部分が基板のエッジの外側に存在するショット領域を露光するとき、基板上の禁止帯の境界線の位置までフォーカス検出点をシフトさせて焦点合わせを行ない、しかる後本来のショット露光位置へ移動させて露光する。
Claim (excerpt)：
マスクに形成された矩形状のパターン領域の投影光学系による投影像を、2次元移動ステージに載置された円形の感光基板上の複数のショット領域の夫々にステップアンドリピート方式で露光する投影露光装置において、前記投影光学系の視野内の所定位置に検出点を有し、焦点合せのために該検出点において前記感光基板の表面の投影光軸方向の位置を検出する焦点検出手段と;前記感光基板の外周端からほぼ一定の幅を禁止帯としたとき、前記感光基板の外形に対する前記複数のショット領域の設計上の配置情報に基づいて、前記禁止帯の境界線よりも外側に全部が位置するショット領域を第1のタイプとして判別し、露光時に前記投影光学系の視野内に位置するショット領域のうち、前記焦点検出手段の検出点が前記禁止帯の中に位置し、同時に一部分が前記境界線の内側に存在するショット領域を第2のタイプとして判別する特定ショット判別手段と;露光の際に前記第1のタイプに属するショット領域を焦点合せするときは、当該ショット領域内の特定点と前記感光基板の中心点とを通る直線が前記境界線と交差する点、もしくはその近傍を、前記焦点検出手段の検出点に合わせるように前記移動ステージを一時的にシフトさせる第1シフト制御手段と;露光の際に前記第2のタイプに属するショット領域を焦点合せするときは、当該ショット領域内の前記感光基板の中心に最も近い点と前記感光基板の中心点とを通る直線上であって、かつ前記境界線の内側の当該ショット領域内に位置する点もしくはその近傍を、前記焦点検出手段の検出点に合わせるように前記移動ステージを一時的にシフトさせる第2シフト制御手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
