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J-GLOBAL ID：200903087097791582

次世代リソグラフィー用の高分解能レジスト

Inventor： ゴンサルベス、 ケネス イー.
Applicant, Patent owner： ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット シャルロット ,  ユニバーシティ オブ コネチカット ,  ゴンサルベス、 ケネス イー.
Agent (2)： 三好 秀和 ,  三好 保男
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002572502
Publication number (International publication number)：2004530921
Application date： Mar. 11, 2002
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：

本発明は、次世代リソグラフィーに適用可能な新規高分解能レジスト、これらの新規レジストの製造方法、および最新技術のリソグラフィーを実施するためのリソグラフィー法におけるこれら新規レジストの使用方法を提供する。ポリマーマトリックス中にナノ粒子を含む新規ナノコンポジットレジストが本発明によって提供される。本発明では、ポリマーの一部として無機部分が組み込まれた新規化学増幅型レジスト、およびポリマー鎖内部に光酸発生基が組み込まれた新規化学増幅型レジストが提供される。非化学増幅型であるが感光性である新規レジスト、および有機-無機ハイブリッドレジストも本発明で提供される。本発明および本明細書に記載の実施形態は、高分解能レジストの根本的に新しい設計を構成している。

Claim (excerpt)：

ナノ粒子成分と、 ポリマー成分と、 を含むナノコンポジットレジスト。

IPC (4)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

FI (6)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R

F-Term (23)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF03 ,  2H025BF07 ,  2H025BF14 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ09 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CC08 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17