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J-GLOBAL ID：200903087113442500

常圧プラズマ処理装置

Inventor： 屋良 卓也
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001126251
Publication number (International publication number)：2002320845
Application date： Apr. 24, 2001
Publication date： Nov. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】 常圧プラズマ処理装置において、簡易な構成で、どのような形状の基材にも対応でき、さらに処理の均一性に優れた多機能常圧プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 対向する一対の上部電極と下部電極と、当該一対の電極間にパルス化された電界を印加する電源からなる常圧プラズマ処理装置であって、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆されており、上部電極が下部電極よりも小型の電極であり、下部電極が大判平板電極であることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

対向する一対の上部電極と下部電極と、当該一対の電極間にパルス化された電界を印加する電源からなる常圧プラズマ処理装置であって、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆されており、上部電極が下部電極よりも小型の電極であり、下部電極が大判平板電極であることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。

IPC (4)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/517 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (4)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/517 ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M

F-Term (42)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA14 ,  4G075CA16 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075ED13 ,  4G075ED20 ,  4G075EE02 ,  4G075FB02 ,  4G075FB12 ,  4G075FC15 ,  4K030AA02 ,  4K030AA05 ,  4K030AA11 ,  4K030BA44 ,  4K030BA45 ,  4K030BA46 ,  4K030DA02 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030JA09 ,  4K030KA15 ,  4K030KA16 ,  4K030KA30 ,  4K057DA16 ,  4K057DB01 ,  4K057DD01 ,  4K057DD10 ,  4K057DE06 ,  4K057DE07 ,  4K057DE08 ,  4K057DE20 ,  4K057DM02 ,  4K057DM06