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J-GLOBAL ID：200903087204876260

斜入射干渉計装置

Inventor：
渡部 文男

About 渡部 文男

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松田 信一

About 松田 信一

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▲葛▼ 宗濤

About ▲葛▼ 宗濤

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小林 富美男

About 小林 富美男


Applicant, Patent owner：
富士写真光機株式会社

About 富士写真光機株式会社


Agent (1)： 川野 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000296596
Publication number (International publication number)：2002107114
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：
【要約】【目的】 その回転方向が判定可能な光学的パターンを結像面上に生成し得る調整用パターン生成手段を光路内に配し、これを光学的パターンの位置基準を与える基準パターンと比較し、両者が略合致するように、被検面調整手段により被検面の姿勢を調整することで、被検面の各調整を良好かつ簡易に行う。【構成】 コリメータレンズ14により平行光とされた光路中に十字パターン生成部材41を挿脱自在に配設する。この十字パターン生成部材41は遮光マスク板に十字形状の透孔を穿設してなり、上記光路中に挿入された場合には、この透孔を通過した光束によりスクリーン18上に十字形状の光パターンが形成され、参照光Bの光束により形成される十字形状の光パターンと測定光Cにより形成される十字形状の光パターンの位置を合致させるように、被検面2aの姿勢を調整することにより被検面2aのアライメント調整を行うことができる。
Claim (excerpt)：
コリメートされた可干渉性の光を光束分割手段において分割し、一方の光束は参照光とし、他方の光束は測定光として被検面に斜入射させ、該参照光および該被検面から反射された該測定光を光束合成手段において合成し互いに干渉させ、生成された干渉縞を干渉縞観察用結像面上に形成させるように構成された斜入射干渉計装置において、前記光を発生させる光源と前記被検面との間の光路中に配され、前記結像面上に、回転方向判定可能な光学的パターンを発生させる調整用パターン生成手段と、 前記光学的パターンの位置基準となるべき、回転方向判定可能な光学的パターンまたは電気的パターンからなる基準パターンを発生させる基準パターン生成手段と、前記調整用パターン生成手段により発生された光学的パターンを前記基準パターンに略合致させるように、前記被検面の配設姿勢を調整し得る被検面姿勢調整手段を備えてなることを特徴とする斜入射干渉計装置。
IPC (2)：
G01B 9/02 ,  G01B 11/30 102
FI (2)：
G01B 9/02 ,  G01B 11/30 102 B
F-Term (25)：
2F064AA09 ,  2F064AA15 ,  2F064FF00 ,  2F064GG00 ,  2F064GG12 ,  2F064GG13 ,  2F064GG58 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064KK01 ,  2F065AA47 ,  2F065FF42 ,  2F065FF51 ,  2F065GG01 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL28 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ32
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (5)
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