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J-GLOBAL ID：200903087212065793

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  中尾 元
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001002860
Publication number (International publication number)：2002207289
Application date： Jan. 10, 2001
Publication date： Jul. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 感度、解像力などのレジスト諸特性に優れ、レジストパターン表面上の異物の発生及び定在波を抑制可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)特定の構造で表されるオリゴアルキレングリコールジアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに(C)下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式(I)において、R1及びR2は、各々独立に、直鎖状、分岐状、あるいは環状アルキル基を表す。Xは直鎖状、分岐状、あるいは環状アルキレン基を表す。mは1〜9の整数を表す。

IPC (8)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/541 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/16 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/039 601 ,  C08K 5/54 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (58)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA18 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  4J002BC12Y ,  4J002BG04Y ,  4J002BG05W ,  4J002BG05Y ,  4J002BG07W ,  4J002BG07Y ,  4J002BG08W ,  4J002BH02W ,  4J002BK00W ,  4J002CC04Y ,  4J002CH02X ,  4J002EB006 ,  4J002EB016 ,  4J002ED037 ,  4J002EH118 ,  4J002EH158 ,  4J002EL088 ,  4J002EN029 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ036 ,  4J002ER009 ,  4J002ES006 ,  4J002ET019 ,  4J002EU029 ,  4J002EU049 ,  4J002EU079 ,  4J002EU139 ,  4J002EU149 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU239 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002EW126 ,  4J002EW176 ,  4J002EY006 ,  4J002EZ006 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05