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J-GLOBAL ID：200903087220731239

光学基材、光学素子、これを用いた光学系及び光リソグラフィー装置、及び光学基材の検査方法

Inventor： 塩澤 正樹
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999172377
Publication number (International publication number)：2001002497
Application date： Jun. 18, 1999
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 光学基材に対してF2レーザを長時間照射し続けていくと、著しい透過損失を起こしてしまうという致命的な問題が生じた。【解決手段】 フッ化カルシウムを主成分とする結晶材料からなり、エネルギー密度が100mJ/(cm2・パルス)のF2レーザを106パルス照射したときに表面に損傷が観察されないことを特徴とする光学基材を提供する。

Claim (excerpt)：

フッ化カルシウムを主成分とする結晶材料からなり、エネルギー密度が100mJ/(cm2・パルス)のF2レーザを106パルス照射したときに表面に損傷が観察されないことを特徴とする光学基材。

IPC (5)：

C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/02

FI (5)：

C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01S 3/02

F-Term (24)：

4G077AA02 ,  4G077AB01 ,  4G077AB10 ,  4G077BE02 ,  4G077CD01 ,  4G077CF00 ,  4G077FJ06 ,  4G077GA06 ,  4G077HA01 ,  4G077HA02 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F072AA06 ,  5F072JJ03 ,  5F072KK30 ,  5F072RR05 ,  5F072SS06 ,  5F072YY09