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J-GLOBAL ID:200903087227445797

結晶質薄膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991186080
Publication number (International publication number):1993024975
Application date: Jul. 25, 1991
Publication date: Feb. 02, 1993
Summary:
【要約】【目的】 結晶質薄膜の低温合成法を提供する。【構成】 基板表面1に薄膜の構成元素を含む物質2を吸着させる。次に物質2の吸着した基板表面1に紫外領域の光3を照射して、基板表面数原子層のみ加熱し結晶化する。
Claim (excerpt):
低温に保たれた基板表面に吸着させた物質を紫外領域の光を照射することにより結晶化させて凝縮させることを特徴とする結晶質薄膜の製造方法。
IPC (5):
C30B 25/02 ,  C30B 29/32 ,  C30B 29/36 ,  C30B 29/54 ,  H01L 21/205

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