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J-GLOBAL ID:200903087263956153

紫外線を使用する、クリプトスポリジウムパルビウムの複製を防止するための方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡部 正夫 (外11名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000548264
Publication number (International publication number):2002514504
Application date: May. 05, 1999
Publication date: May. 21, 2002
Summary:
【要約】クリプトスポリジウム パルビウムのオオキストおよび類似の微生物の複製を防止するための方法であって、この方法は、広帯域の紫外線を約10mJ/cm2から約175mJ/cm2の線量で水に照射することからなり、前記広帯域は、中圧ランプを使用する200nmから300nmの周波数である。
Claim (excerpt):
クリプトスポリジウムのオオキストおよび類似の微生物を防止するための方法であって、水に、広帯域の紫外線を約10mJ/cm2から約175mJ/cm2の線量で照射することからなる方法。
F-Term (3):
4D037AA01 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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