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J-GLOBAL ID:200903087330759961
ラクトン構造を有する多環式化合物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001109446
Publication number (International publication number):2002308866
Application date: Apr. 09, 2001
Publication date: Oct. 23, 2002
Summary:
【要約】【課題】 エキシマレーザー光を光源とするフォトリソグラフィーに用いるレジスト材料のベース樹脂として好適な重合体を与える単量体を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)又は(2)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物(R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアルコキシカルボニル基を示す。R3ないしR7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xはメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。)
Claim (excerpt):
下記一般式(1)又は(2)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物【化1】(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアルコキシカルボニル基を示す。R3ないしR7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xはメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。)
IPC (5):
C07D307/93
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
, C08F 20/28
, C08F 20/38
FI (5):
C07D307/93
, G03F 7/039 601
, C08F 20/28
, C08F 20/38
, H01L 21/30 502 R
F-Term (13):
2H025AA02
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB41
, 4C037UA05
, 4J100AL08P
, 4J100BC07P
, 4J100BC60P
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
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