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J-GLOBAL ID：200903087339187138

立体表示方法及び装置

Inventor： 石本 学 ,  加藤 雅之 ,  有竹 敬和 ,  佐藤 宣子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 竹内 進 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992260920
Publication number (International publication number)：1994110371
Application date： Sep. 30, 1992
Publication date： Apr. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】物体の3次元情報のサンプル点から位相分布を計算してホログラフィックな立体表示を行う立体表示方法および装置に関し、画質を低下することなくサンプル点の数を低減して計算量を減らす。【構成】ホログラム位相分布を計算する位相計算過程と、位相計算過程で計算された位相分布を表現する位相分布表現過程と、位相分布表現過程により表現された位相分布を光の波面に変換して立体像を表示する波面変換過程とを備えた立体表示方法を前提とし、新たに3次元情報で特定された表示対象における特徴部を検出する特徴部検出過程と、特徴部検出過程で検出された特徴部に高密度のサンプル点を設定すると共に、特徴部以外の部分である非特徴部については低密度のサンプル点を設定するサンプル点設定過程とを設け、位相計算過程にあっては、サンプル点設定過程で設定されたサンプル点についてホログラム位相分布を計算する。

Claim (excerpt)：

3次元情報で特定された表示対象における特徴部を検出する特徴部検出過程と、該特徴部検出過程で検出された特徴部に高密度のサンプル点を設定すると共に、特徴部以外の部分である非特徴部については低密度のサンプル点を設定するサンプル点設定過程と、前記サンプル点設定過程で設定されたサンプル点についてホログラム位相分布を計算する位相計算過程と、該位相計算過程で計算された位相分布を表現する位相分布表現過程と、該位相分布表現過程により表現された位相分布を光の波面に変換して立体像を表示する波面変換過程と、から成ることを特徴とする立体表示方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-190483
  
• 特開昭62-023082