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J-GLOBAL ID：200903087393194069
洗浄方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992095086
Publication number (International publication number)：1993291221
Application date： Apr. 15, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 0.1μm以下の汚染粒子の除去や、有機物からなる分子状汚染ならびに炭酸からなる汚染の完全な除去を行い得る優れた洗浄方法を提供する。【構成】 オゾンを溶解した液体6に被洗浄ウェハ2を浸漬し、この浸漬した被洗浄ウェハ2表面に紫外光を照射して洗浄する。
Claim (excerpt)：
オゾンを溶解した液体、またはオゾンガスをバブリングさせた液体中に被洗浄物を浸漬し、この浸漬した被洗浄物表面に紫外光を照射して洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (3)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/08
, H05K 3/26
