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J-GLOBAL ID：200903087408589014

過酸化水素含有排水の処理方法及びその装置

Inventor： 青木 正治 ,  杉井 憲二 ,  石井 栄
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社
Agent (1)： 舘野 公一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992135832
Publication number (International publication number)：1993305295
Application date： Apr. 28, 1992
Publication date： Nov. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 簡便な操作、簡単な装置により短時間、かつ極めて低コストでH2O2 を確実に除去し、H2 O2 リークの心配を皆無とする過酸化水素含有排水の処理方法及びその装置を提供する。【構成】 H2 O2 を含有する酸性排水11の流入口と微生物汚泥供給口を設けた槽内に攪拌機4を設けると共に、この槽に中和処理装置を設けてH2 O2 の分解反応槽1とし、これを沈澱槽2に連絡する。この沈澱槽の沈澱汚泥排出口は脱水工程3に、上澄水流出口は必要により、直接又は脱F工程を介して、生物処理工程にそれぞれ連絡する。【効果】 従来の薬剤投入法に伴う処理水塩分増の問題がなくなるうえ、既設の排水処理装置に汚泥供給ラインを新設するだけでH2 O2 の確実な処理が可能となる。

Claim (excerpt)：

過酸化水素含有排水に、排水の生物学的処理工程で増殖した微生物汚泥を添加混合して、過酸化水素を還元無害化することを特徴とする過酸化水素含有排水の処理方法。

IPC (4)：

C02F 3/34 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/66 ,  C02F 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭63-032519
  
• 特開昭63-270595