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J-GLOBAL ID：200903087409588836
超純水製造装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997150890
Publication number (International publication number)：1998337568
Application date： Jun. 09, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：
【要約】【課題】 UV照射装置と、イオン交換装置と、ファイナルフィルタとを含む超純水製造装置において、一次純水のTOCの変動に対応してUV出力を即時的に制御することにより、水質を低下させることなく電力コストを大幅に削減する。【解決手段】 UV照射装置1として、第1のUV酸化装置1Aとその流出水を処理する第2のUV酸化装置1Bを用い、第1のUV酸化装置1Aの流出水の比抵抗を比抵抗計2Aで測定し、その測定値に基いて第2のUV酸化装置1BのUV照射強度を制御する。【効果】 比抵抗の測定値が大きいときには原水中のTOC量が多いとみて、UV照射強度を高くし、比抵抗の測定値が小さいときにはUV照射強度を低くする。
Claim (excerpt)：
一次純水に紫外線を照射し、含有される有機物を酸化分解する紫外線照射装置と、該紫外線照射装置からの有機酸を含む流出水を処理するイオン交換装置と、該イオン交換装置の流出水が通水されるファイナルフィルタとを含む超純水製造装置において、前記紫外線照射装置は、第1の紫外線酸化装置と、その流出水の比抵抗を測定する比抵抗測定装置と、該第1の紫外線酸化装置の流出水を処理する第2の紫外線酸化装置と、前記比抵抗測定装置の測定値に基づいて該第2の紫外線酸化装置の紫外線照射量を制御する制御装置とを含むことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (3)：
C02F 1/32
, C02F 1/42
, C02F 1/44
C02F 1/32
, C02F 1/42 A
, C02F 1/44 J
